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이 문서는 AI로 생성되었습니다. 오류를 발견하거나 개선 제안이 있으시면 언제든지 기여해 주세요! GitHub에서 편집Differential Diffusion 노드는 시간 단계 임계값을 기반으로 이진 마스크를 적용하여 노이즈 제거 과정을 수정합니다. 이 노드는 원본 노이즈 제거 마스크와 임계값 기반 이진 마스크 사이를 혼합하는 마스크를 생성하여 확산 과정의 강도를 제어할 수 있도록 합니다.